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低溫凈化冶金硅工藝探討

低溫凈化冶金硅工藝探討

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級別:| 積分:0 分 | 瀏覽:78880 | 大。17.50KB | 下載:4374 次 | 上傳:2013-12-30

簡介:

本文主要針對熔析體系選擇原則進行分析,對錫、鋁等金屬作為熔析介質進行篩選,對于Sn-Si體系,在1500K時的硼分凝系數(shù)為0.038,小于純硅熔點0.8。硼的質量分數(shù)在冶金硅二次熔析凈化處理時可以由15×10-6降至0.1×10-6,一般情況下,其它雜質都可以一次性去除到0.1×10-6以下。

[展開]
     

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